(주)네프코 - 뿌리기업 자동화첨단화 지원사업

  • 작성일자

    2018-12-03 00:15
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(주)네프코는 1992년도에 설립하여 급속히 변화하는 IT시대에 끊임없는 혁신과 기술개발을 통해 시장의 Needs를 만족시키는 포토마스크 전문기업으로 성장하고 있다, 포토마스크는 반도체 칩, 디스플레이 패널, 인쇄회로기판 등의 제품에 회로를 새겨 넣기 위해 사진의 원판 역할을 하는데 제작 공정 중 접촉식 노광 공정의 경우 공정 이후에 포토마스크 표면에 다량의 포토레지스 트가 흡착되는 문제가 발생했다. 이를 제거하기 위한 세정 공정을 진행함에 따라 또 다른 문제인 Haze 현 상이 발생하여 추가공정이 필요했다. 이러한 애로사항을 해결하기 위해 (주)네프코는 코팅 포토마스크를 개발하였다. 그러나 코팅 기능을 부여 하기 위한 표면처리 공정은 수작업으로 진행되었기 때문에 포토마스크 표면에 정전기에 의한 이물, 작업자 에 의한 지문 등 이물이 흡착되는 문제가 발생하고 있었으며 수작업으로 인한 다량의 코팅액 사용, 작업시 간 및 인원 투입은 제조원가 상승의 요인이었다. 또한 제품들의 품질차이, 대형 포토마스크의 경우 수작업 코팅으로 불가하다는 한계, 화학약품에 의한 작 업자 유해환경 노출 등 (주)네프코는 이러한 다양한 애로사항 해결과 생산성 및 품질 향상을 위해 국가뿌리 산업진흥센터의 자동화.첨단화 지원사업을 통해 코팅 자동화 시스템을 구축했다.

 

 

 

성장 및 기대효과

코팅액 손실량 감소, 작업자 노무비 절감 등에 따른 제조원가 감소로 (주)네프코의 경쟁력을 확보할 수 있으며 수작업에 발생 하는 다양한 인적 불량 요인 (편차, 오염원, 제품 파손 등) 배제에 따른 수율 향상이 기대된다. 작업인력을 탄력적으로 운용이 가능할 뿐만 아니라, 작업시간 단축으로 생산성이 향상되어 빠른 납기로 고객사 신뢰성을 확 보할 수 있을 것이다. 또한 일관성 있는 제품 관리로 품질이 향상될 것이며 대형 포토마스크에 코팅 공정을 적용함으로써 경쟁사 대비 나은 품질로 포토마스크 시장의 경쟁력을 확보할 수 있을 것이다. 추후 High-end 코팅 기술 연구를 통한 기존 제품 품질 향상, 추가적인 기능성 제품 개발뿐만 아니라 코팅 기반 신사업 창출 가능성까지 이어질 것으로 기대된다.